第438章 光刻机项目：另辟蹊径 (第3/8页)

泛，如

    微纳器件加工，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻，图形线宽和图形位移测量等。

    …......

    需要成就点：300点！

    ....

    沐阳大概看了下简介，光从技术参数上就看出它的先进性。

    还有更加先进的光刻机，但是，以星海集团目前的条件，买了也造不出来，而且需要的成就点非常多。

    这个ebl01号称可以制造1n下的芯片，但量产成本会比较高。

    因此，当前的情况，星海集团可以从7n片工艺开始，可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。

    等竞争对手可以批量搞7n片了，星海集团再推出5n3n片。

    有些设备应用，也用不着这么高端的芯片，28n片工艺足够，也是未来十年内的主流。

    只是说，沐阳不打算玩什么中低端芯片。

    另外，沐阳打算弄一些小于1n芯片，用于制造量子计算机和超算，这类芯片他打算自用。

    接下来，沐阳确认购买ebl01技术。

    十几分钟后，沐阳把ebl01技术吸收完毕。

    他感觉自己对光刻机有了更深入的了解，如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家。

    买了光刻机的技术，沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备。

    这个芯片设计软件，他就不打算自己研发了，他在芯片软件设计这一块是弱点，靠自己研究不知道得花多长时间。

    而且，目前公司形势严峻，一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了，会对星海集团搞各种限制。

    沐阳现在赶时间，同时还有更多更