第438章 光刻机项目：另辟蹊径 (第1/8页)

    沐阳研究更新后的阅读系统两个多小时才研究透，兴奋得睡不着。

    喝了一杯茶，他想看看芯片制造技术的核心设备：光刻机。

    目前市场上，有两种主流光刻机，一个是duv光刻机，另一个是euv光刻机。duv是深紫外线（deepuvioletlithography），euv是极深紫外线（extreuvioletlithography)。

    从制程范围来看，duv基本上只能做到25nintel凭借双工作台的模式做到了10n但是却无法达到10n下。

    只有euv能满足10n下的晶圆制造，并且还可以向5n3n续延伸。

    这个线宽其实就是跟光的线宽有关系，比如可见光的g线，那就是436n如果用来刻蚀，线路肯定很宽。

    可以简单地认为，光刻机的光系统其实就是一支画笔，不同的光代表不同粗细大小的笔芯，越细的笔（光）能够画越细越复杂的画。

    duv就是彩笔，euv就是中性笔，中性笔画的线条比较细，比较好用。

    这么理解，也好理解光刻机到底如何刻蚀电路图了。

    当前，国外品牌光刻机主要以荷蓝asml，岛国nikon和on三大品牌为主。请下载小说app爱读app阅读最新内容

    euv的价格是1—3亿美金／台，duv的价格为2000万—5000万美金／台不等。

    目前先进的光刻系统就是euv光刻机，如果沐阳打算走euv光刻机路线，必然绕不开别人的技术专利保护范围。

    因此，他只能寻找另外光种的光刻机，同时要考虑到光的分辨率、对准精度、方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等指标。